高分辨场发射透射电镜TEM
仪器编号
规格
生产厂家
赛默飞(FEI)
型号
Talos F200X G2
制造国家
美国
分类号
放置地点
4#B129
出厂日期
2023-08-24
购置日期
2023-08-24
入网日期
2023-12-19
主要规格及技术指标

1、TEM分辨率:点分辨率≤0.25 nm、信息分辨率≤0.12 nm;
2、STEM分辨率≤0.16 nm;
3、HAADF探头和16分割PantherSTEM探头,可采集BF,ABF,ADF和HAADF图像;
4、 Super-X EDS 系统,有效探测器面积120 mm²,能量分辨率(Mn-Kα ):优于136 eV;
5、同时采集STEM和EDX的二维和三维分析信号,实现多维快速化学分析。

主要功能及特色

Talos F200X 具有优秀的高分辨率 STEM 和 TEM 成像与业界领先的能量色散 X 射线光谱 (EDS) 信号检测,可在多维度下对纳米材料进行快速、精确的定量表征。可用于材料的显微结构分析,对材料晶格、缺陷或界面原子结构表征,给出材料的化学成分信息、电子结构和成键信息。

主要附件及配置

暂无收费信息